Chip checking microscope TG2U

 【Introduction】：
 TG2U lithography is used in the LSI, sensor, surface wave component, magnetic bubble, microwave, CCD and so on.

 【Remark】：
 Lithography TG2U Technical parameter：
 1．Template size:
 a．100×100×2-3mm；
 b．75×75×2-3mm：
 2． silicon size：Φ50-Φ75mm， real line width 3-4цm；
 3． comparative displacement between template and silicon：
 a．X、Y ≥±2．5mm；
 b．θ(rotate)≥±5°；
 4．support station (silicon) rotate Z axies： rough tuning 360°，fine tuning ±5；
 5.Integrated moving range of working station：X、Y integrate Φ75mm；
 6． the space between ball basical station and template：0-7mm；
 7． exposure system：GCQ200W over high-pressure ball Hg， exposure wave length：300～436nm；
 8．engergy is not less than 407nm of wave length；7mw／cm；
 9． uneven is within Φ75mm ：±5％：
 10． lighting wave length：≈545nm；
 11． exposure time：O．01 seconds-99．99 minutes；
 12． the focusing range of binocular：13mm；
 13． the zoom of binocular ：
 a． pair ocular：lOX，16X；
 b． flat field objective：6X，9X，15X；
 c． total zoom out：60X-240X；
 14． vacuum touching pressure：≥O．7Kgf；
 15． power supply：
 a．frequency：50HZ(Z)；
 b．rotated input voltage：190V-230V；
 c．power consumption：≤300VA；
 16．Dimension：1000X850X980mm（2 boxes）
 17．Weight：≈200Kg；
 (1) vacuum supply：≥450mm Hg；
 (2) The device of air supply stability is below
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