Chip checking microscope TG2U

【Introduction】：
TG2U lithography is used in the LSI, sensor, surface wave component, magnetic bubble, microwave, CCD and so on.

【Remark】：
Lithography TG2U Technical parameter：
1．Template size:
a．100×100×2-3mm；
b．75×75×2-3mm：
2． silicon size：Φ50-Φ75mm， real line width 3-4цm；
3． comparative displacement between template and silicon：
a．X、Y ≥±2．5mm；
b．θ(rotate)≥±5°；
4．support station (silicon) rotate Z axies： rough tuning 360°，fine tuning ±5；
5.Integrated moving range of working station：X、Y integrate Φ75mm；
6． the space between ball basical station and template：0-7mm；
7． exposure system：GCQ200W over high-pressure ball Hg， exposure wave length：300～436nm；
8．engergy is not less than 407nm of wave length；7mw／cm；
9． uneven is within Φ75mm ：±5％：
10． lighting wave length：≈545nm；
11． exposure time：O．01 seconds-99．99 minutes；
12． the focusing range of binocular：13mm；
13． the zoom of binocular ：
a． pair ocular：lOX，16X；
b． flat field objective：6X，9X，15X；
c． total zoom out：60X-240X；
14． vacuum touching pressure：≥O．7Kgf；
15． power supply：
a．frequency：50HZ(Z)；
b．rotated input voltage：190V-230V；
c．power consumption：≤300VA；
16．Dimension：1000X850X980mm（2 boxes）
17．Weight：≈200Kg；
(1) vacuum supply：≥450mm Hg；
(2) The device of air supply stability is below
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